控溫光化學(xué)反應(yīng)器CY-GHX-DC大小容量組合型

主要特征：

1光化學(xué)反應(yīng)儀具有智能微電腦控制，可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化

2.進(jìn)口光源控制器，內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器，功率連續(xù)可調(diào)，穩(wěn)定性高

3.光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時(shí)功能，操作簡便

4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料，且?guī)в杏^察窗

5.采用內(nèi)照式光源，受光充分，燈源采用耐高壓防震材質(zhì)，經(jīng)久耐用

6.配有8（6/12可選）位磁力攪拌裝置，使樣品充分混勻受光

7.雙層耐高低溫石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度

8. 光化學(xué)反應(yīng)儀高溫度保護(hù)系統(tǒng)，自動(dòng)斷電功能

9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口，內(nèi)部設(shè)有2個(gè)專用插座，供燈源和攪拌反應(yīng)器用

實(shí)驗(yàn)室光化學(xué)反應(yīng)儀設(shè)備系統(tǒng)介紹

光化學(xué)反應(yīng)儀工作原理：
光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。
光化學(xué)反應(yīng)儀也可稱為光催化反應(yīng)儀、光解水反應(yīng)儀、光降解反應(yīng)儀、光化學(xué)反應(yīng)釜、光化學(xué)反應(yīng)裝置、光解水反應(yīng)裝置等等。
光化學(xué)反應(yīng)儀種類分析：
多試管（小試管）光化學(xué)反應(yīng)儀、大試管光化學(xué)反應(yīng)儀、多功能光化學(xué)反應(yīng)儀。
光化學(xué)反應(yīng)儀應(yīng)用范圍：
廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。

控溫光化學(xué)反應(yīng)器CY-GHX-DC大小容量組合型

技術(shù)參數(shù)：

型號(hào)：CH-GHX-DC多功能控溫光化學(xué)反應(yīng)儀

（一）主體部分

1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器，可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍：0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

（二）小容量反應(yīng)部分

1.石英試管規(guī)格：30ml、50ml（或定做）。

2.可同時(shí)處理8個(gè)樣品（或定做）。

3.八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個(gè)樣品的攪拌速度。

（三）大容量反應(yīng)部分

1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等（或定做）。

2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

（四）控溫裝置

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量：＞1000W

2.控溫范圍：-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。

大容量光化學(xué)反應(yīng)儀產(chǎn)品配置：

光化學(xué)反應(yīng)儀廠家產(chǎn)品的基本保養(yǎng)常識(shí)：
1、儀表應(yīng)放在陰涼、通風(fēng)、干燥、防塵較好的位置，為了的散熱效果，儀表通風(fēng)處，于其它物品應(yīng)保持有效距離(N﹥30cm)。
2、在連接交流電池之前，要電壓與儀表所要求的電壓一致(允許±10%的偏差)，并電池插座的額定負(fù)載不小于儀表要求。
3、為了避免觸電事故，儀表的輸入電池線必須接地，本儀表用于的是三芯接地插頭，這種插頭有接地腳，如果插頭無法插入座內(nèi)，則應(yīng)請(qǐng)電工安裝正確的插座，不要使儀表失去接地保護(hù)作用。
4、儀表通常用于隨機(jī)附帶的電池線。如果電池線破損，必須換不許修理。換時(shí)必須用相同類型和規(guī)格的電池線代替。本儀表用于時(shí)電池線上不許放置任何物品。不要將電池線置于人員走動(dòng)的地方。
5、注意儀表的防霧：測繪儀表在用于和貯放中，除了有生霉現(xiàn)象外，往往還有光學(xué)零件的起霧，影響儀表的正常用于，故可針對(duì)光學(xué)信器起霧的主要因素，采取防止措施。
6、必須重視儀表設(shè)備的管理和用于：儀表設(shè)備的高負(fù)荷用于，往往容易發(fā)生意外故障，特別是光學(xué)儀表若因維護(hù)和用于不當(dāng)而起霧，就不能發(fā)揮儀表的正常作用，而帶來工作上的障礙。所以的維護(hù)管理儀表設(shè)備已成為當(dāng)今企事業(yè)單位有效降低成本，提高勞動(dòng)生產(chǎn)率的有效手段。